废气净化塔的适用范围：

电镀、表面处理、单晶硅酸洗、半导体清洗、电子制造、漆包线、喷涂用废气净化塔

漆喷涂、涂装生产等行业及领域。属于两相逆流气体净化塔填料吸收塔。废气从废气处理塔的下入口切向地进入净化塔。在风扇的动态作用下，它快速地填充进气段的空间，然后均匀地通过平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，气相中的酸性（或碱性）物质与液相中的碱性（或酸性）物质发生反应，反应物（主要是可溶性酸（碱）与吸收剂流入较低的储罐。未完全吸收的酸性（或碱性）气体继续上升到阶段的喷雾。

适用于电镀生产废气净化塔、表面处理、单晶硅酸洗、半导体、电子制造、漆包线喷漆清洁和涂料生产等行业和领域。

　　光氧催化是对光催化氧化工艺的一种升级改进，把微波加热与催化剂加快化程反应的优点结合起来，利用微波加热的特点提供高温高压，与催化剂共同作用降低化学反应的活化能(分子从常态转变为容易发生化学反应的?。　　结合实际生产过程，采用了连续的吸附-脱附-再生操作程序。在甲苯回收工程中，设计选用了三箱吸附系统。3个吸附器共用一套管路系统，运行时可相互切换。含的废气经过预处理后依次进入3个吸附器，当吸附器1吸附饱和后，切换到吸附器2吸附，吸附器2吸附饱和后，再切换到吸附器3吸附；脱附-干燥再生工序也是依次进行。

　　等离子体目前采用的有四类，介质阻挡放电（双介质、单介质）、放电（金属、纤维）、板式放电、微波放电，实际应用也有采用组合模式。因其电离后产生的电子均能量在10ev，适当控制反应条件可以实现一般情况下难以实现或速度很慢的化学反应十分快速。　　其配套电器均采用自动保护设施,适应24h不间断运行，尤其适用于大型连续化生产的高要求企业。该洗涤塔，气流的运动方向和喷淋药剂的方向是交叉的，由于结构紧密，大大降低了处理系统的高度，单机的处理风量达5000m3/min以上。　　过滤材料采制成框加架，内夹过滤材料，过滤器安装在金属箱，定期更换。吸附气体流程：待处理的有机废气由风管引出后进活性炭吸附床，气体进入吸附床后，气体中的有机物质被活性炭吸附而着附在活性炭的表面，从而使气体得以净化，净化后的气体再通过风机排向大气。

　　正常情况下设备保养如下所示：1、机体通风孔需保持通畅，以免发生故障，动作异常。2、为避免光氧催化废气处理装置发生机器故障，请提供额定电压范围内的电源。3、禁止擅自拆卸、加工、改造或修理光氧催化废气处理装置，否则会产生异常动作、触电或火灾的危险。　　2原料系统除尘烧结原料工艺过程中，在原料的解收、混合、破碎、筛分、运输和配料的各个工艺设备点都产生大量的粉尘。原料系统除尘，可采用湿法和干法除尘工艺。除尘系统可采用分散式或集中式。分散式除尘系统的除尘设备可采用冲激式除尘器、泡沫除尘器和脉冲袋式除尘器等。　　固体废物应分类收集、贮存，一般工业固体废物暂存场按一般工业固体废物贮存、处理场污染控制标准(GB18599-2001)及其修设置；危险废物暂存场及日常管理严格执行危险废物贮存污染控制标准（GB18597-2001）及其修要求设置。　　与的电晕放电形势产生的低温等离子相比较，等离子体放电密度是电晕放电的1500倍，这就是低温等离子体治理工业废气99%以失败而告终的原因。与目前国内常用的异味气体治理方法相比较，等离子体工业废气处理具有以下特点：低温等离子体应用于恶臭气体治理，具有处理效果好，运行费用低廉、无二次污染、运行、操作管理简便、即开即用等优点。