详细介绍:
此箱式真空气氛炉应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结,也适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。
BXZQ-4-16箱式实验炉显示模式 LED数显仪表,可选配豪华型智能触摸屏仪表,实时曲线显示。
控制模式 智能PID调节、模糊控制、自整定功能
温度曲线 30段可编程控制,可设置30段升降温程序
测温元件 B型热电偶
加热元件 优质硅钼棒,温场均匀,能耗低。
保温材料 高纯氧化铝微晶体纤维,保温性能好
售后服务 12个月质保(相关易耗件除外),终身保修
包装方式 三合板木质包装箱
BXZQ-4-16箱式实验炉规格及参数
规格
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炉膛尺寸(长*宽*高)
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使用温度(℃)
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功率(KW)
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BXZQ-2-10
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250*150*150
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1000
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2
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BXZQ-4-10
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300*200*200
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1000
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4
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BXZQ-6-10
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400*200*200
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1000
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6
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BXZQ-8-10
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400*300*300
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1000
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8
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BXZQ-4-14
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250*150*150
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1400
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4
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BXZQ-8-14
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300*200*200
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1400
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8
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BXZQ-10-14
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400*200*200
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1400
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10
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BXZQ-15-14
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400*300*300
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1400
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15
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BXZQ-4-16
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250*150*150
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1600
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4
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BXZQ-8-16
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300*200*200
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1600
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8
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BXZQ-12-16
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400*200*200
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1600
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12
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BXZQ-16-16
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400*300*300
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1600
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16
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注:可根据用户要求另行设计制造,更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询。
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